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      晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)

      簡(jiǎn)要描述:WD4000晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)通過非接觸測(cè)量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。

      • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      • 更新時(shí)間:2025-03-10
      • 訪  問  量:821

      詳細(xì)介紹

      品牌中圖儀器產(chǎn)地國(guó)產(chǎn)
      加工定制

      中圖儀器WD4000晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)通過非接觸測(cè)量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。

      晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)

      WD4000晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量 Wafer 厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。

      使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量晶圓 Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI 等參數(shù),同時(shí)生成 Mapping 圖;

      采用白光干涉測(cè)量技術(shù)對(duì) Wafer 表面進(jìn)行非接觸式掃描同時(shí)建立表面 3D 層析圖像,顯示 2D 剖面圖和 3D 立體彩色視圖,高效分析表面形貌、粗糙度及相關(guān) 3D 參數(shù);

      基于白光干涉圖的光譜分析儀,通過數(shù)值七點(diǎn)相移算法計(jì)算,達(dá)到亞納米分辨率測(cè)量表面的局部高度,實(shí)現(xiàn)膜厚測(cè)量功能;

      紅外傳感器發(fā)出的探測(cè)光在 Wafer 不同表面反射并形成干涉,由此計(jì)算出兩表面間的距離(即厚度),可適用于測(cè)量 Bonding Wafer 的多層厚度。

      該傳感器可用于測(cè)量不同材料的厚度,包括碳化硅、藍(lán)寶石、氮化鎵、硅等。


      應(yīng)用領(lǐng)域

      可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測(cè)、3C 電子玻璃

      屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS 器件等超精密加工行業(yè)。可測(cè)各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,如:

      1、無圖晶圓厚度、翹曲度的測(cè)量

      晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)

      通過非接觸測(cè)量,將晶圓上下面的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度、粗糙度、總體厚度變化(TTV),有效保護(hù)膜或圖案的晶片的完整性。


      2、無圖晶圓粗糙度測(cè)量

      晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)

      Wafer減薄工序中粗磨和細(xì)磨后的硅片表面3D圖像,用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測(cè)量數(shù)值的穩(wěn)定性來反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車間強(qiáng)噪聲環(huán)境中測(cè)量的減薄硅片,細(xì)磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次測(cè)量數(shù)據(jù)計(jì)算重復(fù)性為0.046987nm,測(cè)量穩(wěn)定性良好。


      WD4000無圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測(cè)量大翹曲wafer、測(cè)量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確??蓪?shí)現(xiàn)砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質(zhì)晶圓的量測(cè)。


      產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

      1、非接觸厚度、三維維納形貌一體測(cè)量

      集成厚度測(cè)量模組和三維形貌、粗糙度測(cè)量模組,使用一臺(tái)機(jī)器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三維形貌的測(cè)量。

      2、高精度厚度測(cè)量技術(shù)

      (1)采用高分辨率光譜共焦對(duì)射技術(shù)對(duì)Wafer進(jìn)行高效掃描。

      (2)搭配多自由度的靜電放電涂層真空吸盤,晶圓規(guī)格可支持至12寸。

      (3)采用Mapping跟隨技術(shù),可編程包含多點(diǎn)、線、面的自動(dòng)測(cè)量。

      3、高精度三維形貌測(cè)量技術(shù)

      (1)采用光學(xué)白光干涉技術(shù)、精密Z向掃描模塊和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;

      (2)隔振設(shè)計(jì)降低地面振動(dòng)和空氣聲波振動(dòng)噪聲,獲得高測(cè)量重復(fù)性。

      (3)機(jī)器視覺技術(shù)檢測(cè)圖像Mark點(diǎn),虛擬夾具擺正樣品,可對(duì)多點(diǎn)形貌進(jìn)行自動(dòng)化連續(xù)測(cè)量。

      4、大行程高速龍門結(jié)構(gòu)平臺(tái)

      (1)大行程龍門結(jié)構(gòu)(400x400x75mm),移動(dòng)速度500mm/s。

      (2)高精度花崗巖基座和橫梁,整體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、可靠。

      (3)關(guān)鍵運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)采用高精度直線導(dǎo)軌導(dǎo)引、AC伺服直驅(qū)電機(jī)驅(qū)動(dòng),搭配分辨率0.1μm的光柵系統(tǒng),保證設(shè)備的高精度、高效率。

      5、操作簡(jiǎn)單、輕松無憂

      (1)集成XYZ三個(gè)方向位移調(diào)整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺(tái)平移、Z向聚焦等測(cè)量前準(zhǔn)工作。

      (2)具備雙重防撞設(shè)計(jì),避免誤操作導(dǎo)致的物鏡與待測(cè)物因碰撞而發(fā)生的損壞情況。

      (3)具備電動(dòng)物鏡切換功能,讓觀察變得快速和簡(jiǎn)單。

      晶圓厚度翹曲度量測(cè)系統(tǒng)

      部分技術(shù)規(guī)格

      品牌CHOTEST中圖儀器
      型號(hào)WD4000系列
      測(cè)量參數(shù)厚度、TTV(總體厚度變化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等
      可測(cè)材料砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、 鈮酸鋰、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、外延材料等
      厚度和翹曲度測(cè)量系統(tǒng)
      可測(cè)材料砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍(lán)寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等
      測(cè)量范圍150μm~2000μm
      掃描方式Fullmap面掃、米字、自由多點(diǎn)
      測(cè)量參數(shù)厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線粗糙度
      三維顯微形貌測(cè)量系統(tǒng)
      測(cè)量原理白光干涉
      干涉物鏡10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個(gè))
      可測(cè)樣品反射率0.05%~100
      粗糙度RMS重復(fù)性0.005nm
      測(cè)量參數(shù)顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大類300余種參數(shù)
      膜厚測(cè)量系統(tǒng)
      測(cè)量范圍90um(n= 1.5)
      景深1200um
      最小可測(cè)厚度0.4um
      紅外干涉測(cè)量系統(tǒng)
      光源SLED
      測(cè)量范圍37-1850um
      晶圓尺寸4"、6"、8"、12"
      晶圓載臺(tái)防靜電鏤空真空吸盤載臺(tái)
      X/Y/Z工作臺(tái)行程400mm/400mm/75mm

      請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

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